发明名称 用以制造一包括有一矽分流层之非挥发性记忆元件之方法
摘要 一种氮化物唯读记忆体,其包括一选择性生长之磊晶分流矽层(分流层),其降低了位元线片电阻,并增加了位元线迁移性。此分流层可藉由一高温原位P掺杂沈积而生成。一不包括自然氧化物并具有优秀电子迁移性之位元线介面,可藉由本发明之选择性磊晶生长方法而达成。
申请公布号 TW200735285 申请公布日期 2007.09.16
申请号 TW095135237 申请日期 2006.09.22
申请人 旺宏电子股份有限公司 发明人 卢棨彬;杨令武;陈光钊
分类号 H01L21/8246(2006.01) 主分类号 H01L21/8246(2006.01)
代理机构 代理人 李贵敏
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行路16号