发明名称 | 用以制造一包括有一矽分流层之非挥发性记忆元件之方法 | ||
摘要 | 一种氮化物唯读记忆体,其包括一选择性生长之磊晶分流矽层(分流层),其降低了位元线片电阻,并增加了位元线迁移性。此分流层可藉由一高温原位P掺杂沈积而生成。一不包括自然氧化物并具有优秀电子迁移性之位元线介面,可藉由本发明之选择性磊晶生长方法而达成。 | ||
申请公布号 | TW200735285 | 申请公布日期 | 2007.09.16 |
申请号 | TW095135237 | 申请日期 | 2006.09.22 |
申请人 | 旺宏电子股份有限公司 | 发明人 | 卢棨彬;杨令武;陈光钊 |
分类号 | H01L21/8246(2006.01) | 主分类号 | H01L21/8246(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 李贵敏 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行路16号 |