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发明名称 POSITIVE RESIST COMPOSITION OF CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE, RESIST COATED MATERIAL, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, AND PROCESS FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 EP1400853(A4) 申请公布日期 2007.09.12
申请号 EP20020743758 申请日期 2002.06.28
申请人 TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 发明人 NITTA, KAZUYUKI;MIMURA, TAKEYOSHI;SHIMATANI, SATOSHI;OKUBO, WAKI;MATSUMI, TATSUYA
分类号 G03F7/039;G03F7/11;(IPC1-7):G03F7/039;H01L21/027 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人
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