发明名称 |
氮化物半导体发光装置制造方法 |
摘要 |
本发明提供了一种具有高的光发射输出同时可以减小正向电压(Vf)的氮化物半导体发光装置制造方法。本发明涉及一种氮化物半导体发光装置制造方法,该氮化物半导体发光装置包括至少n型氮化物半导体、p型氮化物半导体、以及形成于n型氮化物半导体和p型氮化物半导体之间的有源层(4);其中所述n型氮化物半导体包括至少n型接触层(3)和n侧GaN层(101),n侧GaN层(101)由单个或多个非掺杂和/或n型层组成,且该方法包括步骤:使用含氮气的气体作为载气通过金属有机物化学气相沉积形成n侧GaN层(101),使得n侧GaN层(101)形成于n型接触层(3)和有源层(4)之间。 |
申请公布号 |
CN101030618A |
申请公布日期 |
2007.09.05 |
申请号 |
CN200710084338.X |
申请日期 |
2007.02.27 |
申请人 |
夏普株式会社 |
发明人 |
驹田聪;笔田麻佑子 |
分类号 |
H01L33/00(2006.01);H01S5/343(2006.01) |
主分类号 |
H01L33/00(2006.01) |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
陶凤波 |
主权项 |
1.一种氮化物半导体发光装置制造方法,所述氮化物半导体发光装置包括至少n型氮化物半导体、p型氮化物半导体、以及形成于所述n型氮化物半导体和所述p型氮化物半导体之间的有源层;其中所述n型氮化物半导体包括至少n型接触层和n侧GaN层;以及所述n侧GaN层由单个或多个非掺杂和/或n型层组成;所述方法包括步骤:使用含氮气的气体作为载气通过金属有机物化学气相沉积形成所述n侧GaN层,使得所述n侧GaN层形成于所述n型接触层和所述有源层之间。 |
地址 |
日本大阪府 |