发明名称 薄膜图案层的制造方法
摘要 本发明涉及一种薄膜图案层的制造方法,该方法包括下列步骤:提供一具有多个挡墙的基板,该多个挡墙间形成有多个限制空间;将该基板置于一可控制温度的台面上;以一注射装置将墨水注入所选定的限制空间内,并同时控制基板的温度,以使墨水散布于所选定的限制空间内;选择性使该注射装置与基板相对运动,完成所有选定限制空间的墨水涂布以形成薄膜图案层。
申请公布号 CN101021688A 申请公布日期 2007.08.22
申请号 CN200610007552.0 申请日期 2006.02.15
申请人 虹创科技股份有限公司 发明人 许艳惠;王宇宁;周景瑜
分类号 G03F7/20(2006.01);G03F7/004(2006.01);H01L21/00(2006.01);G02B5/23(2006.01);B41J2/01(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 北京申翔知识产权代理有限公司 代理人 周春发
主权项 1.一种薄膜图案层的制造方法,包括下列步骤:提供一具有多个挡墙的基板,该多个挡墙间形成多个限制空间;将该基板置于一可控制温度的台面上;以一注射装置将墨水注入所选定的限制空间内,并同时控制基板的温度,以使墨水散布于限制空间内;选择性使该注射装置与基板相对运动,完成所有选定限制空间的墨水涂布以形成薄膜图案层。
地址 台湾省新竹科学工业园区新竹市工业东四路24-1号4楼