基材处理室用的套组和靶材

摘要

本发明公开了一种处理套组(process kit)，该处理套组包括在基材处理室中设置于基材支撑件周围的环组件，其用于减少沈积在室构件和基材的悬伸边上的制程沈积物。该处理套组包括沈积环、盖环以及防升托架，并且还包括整体护板。同时还对靶材进行说明。