发明名称 | 一种画素结构及其检修方法与制造方法 | ||
摘要 | 一种画素结构,包括了至少二条扫描线与至少二条资料线,此些扫描线与资料线彼此相交,而在此些扫描线与资料线的内围,形成了至少一个区间。并且,画素结构又包括了薄膜电晶体、保护层、缺陷检测图案以及画素电极。画素电极系设置于保护层上 ,其透过开口电性连接于薄膜电晶体。缺陷检测图案(defectdetecting pattern),系设置于区间中,用以检测其下方是否有其它之电传导或半导体物质所构成的残留物存在。 | ||
申请公布号 | TW200728826 | 申请公布日期 | 2007.08.01 |
申请号 | TW095103625 | 申请日期 | 2006.01.27 |
申请人 | 友达光电股份有限公司 | 发明人 | 林裕新;郑仲志 |
分类号 | G02F1/133(2006.01) | 主分类号 | G02F1/133(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 李长铭;庄世超 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市科学工业园区力行二路1号 |