发明名称 电可擦除可编程只读存储器单元及其制造方法
摘要 本发明提供了电可擦除可编程只读存储器(EEPROM)单元及其制造方法。EEPROM单元包括:形成在半导体衬底上的、用来限定有源区的隔离层;在有源区中顺次设置的源区、掩埋N<SUP>+</SUP>区和漏区。所配置的存储栅横跨掩埋N<SUP>+</SUP>区。第一沟道区形成在源区与掩埋N<SUP>+</SUP>区之间。隧道区位于掩埋N<SUP>+</SUP>区与存储栅之间,并自对准于掩埋N<SUP>+</SUP>区。这样,可以实现隧道区与掩埋N<SUP>+</SUP>区之间的重叠面积在整个衬底上是一致的,由此改善了EEPROM器件的编程、擦除和读取操作。
申请公布号 CN1329995C 申请公布日期 2007.08.01
申请号 CN200410006714.X 申请日期 2004.01.24
申请人 三星电子株式会社 发明人 金荣浩;申镐奉
分类号 H01L27/115(2006.01);H01L21/8247(2006.01) 主分类号 H01L27/115(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 陶凤波;侯宇
主权项 1.一种电可擦除可编程只读存储器单元,包括:一隔离层,形成在半导体衬底中用于限定有源区;一源区、一掩埋N+区和一漏区,形成在该有源区中且彼此分离;一单元耗尽区,形成在该掩埋N+区和该漏区之间的该有源区中,该掩埋N+区与该单元耗尽区接触;位于所述源区与所述掩埋N+区之间的第一沟道区;位于所述单元耗尽区与所述漏区之间的第二沟道区;一存储栅,形成在所述第一沟道区和所述掩埋N+区上;一选择栅,形成在所述第二沟道区上;和一隧道氧化物层,形成在所述掩埋N+区上,其中,该隧道氧化物层与所述掩埋N+区的在各个相同侧的边缘之间的距离是等距的。
地址 韩国京畿道