画素结构及其制造方法

摘要

一种画素结构的制造方法，其先在基板上形成闸极、与闸极电性连接之扫瞄线以及在基板之边缘处与扫瞄线电性连接的第一端子部。在基板上形成闸绝缘层以覆盖闸极、扫瞄线与第一端子部。在闸极上方之闸绝缘层上定义出半导体层。图案化闸绝缘层以暴露出第一端子部。在基板上形成透明导电层。在透明导电层上形成图案化光阻层。之后，利用图案化光阻层为罩幕而图案化透明导电层，以定义出源极、汲极、与源极电性连接的资料线、与汲极电性连接的画素电极、与资料线电性连接的第二端子部以及与第一端子部电性连接之接触垫。由于上述之画素结构的制造方法只需使用四道光罩，因此可以降低制造成本。