发明名称 背光模组
摘要 本发明系提供一种运用细微V型沟槽(V-groove)导光板之背光模组,藉以消除目前此类背光模组极易产生之成像缺点;其主要系在导光板之至少正面或底面分布众多微细平行的镜面V型沟槽,而在部分区域(特别是靠近灯源处之区域,或是灯源对侧区域)其V型沟槽角度为不规律、不连续变化。如此可提高背光模组辉度,改善辉度均匀性,并可有效消除此类模组极易产生之外观瑕疵-成像现象。
申请公布号 TWI282887 申请公布日期 2007.06.21
申请号 TW093113181 申请日期 2004.05.11
申请人 台湾奈普光电科技股份有限公司 发明人 陈树盛
分类号 G02F1/1335(2006.01) 主分类号 G02F1/1335(2006.01)
代理机构 代理人
主权项 1.一种背光模组,包含有:一光源;一导光板,其出光 面(正面)或反射面(底面)上至少一面分布有多数相 互平行微细镜面V型沟槽,其中部分区域之微细镜 面V型沟槽其角度为不规则、非连续变化;其余区 域之V型沟槽角度则为固定是连续、逐渐变化。 2.依申请专利范围第1项所述之背光模组,其中各相 互平行的V型沟槽为可连续相接,或分开不相连。 3.依申请专利范围第1项所述之背光模组,其中在靠 近入光侧处之V型沟槽其角度为不规则、非连续变 化。 4.依申请专利范围第1项所述之背光模组,其中在靠 近出光侧处之V型沟槽其角度为不规则、非连续变 化。 5.依申请专利范围第1项所述之背光模组,其中在靠 近入光侧处及出光侧处之V型沟槽其角度为不规则 、非连续变化。 6.依申请专利范围第1项所述之背光模组,其中角度 为不规则、非连续变化之V型沟槽之间距固定,但 沟槽深度则依角度及间距而变化。 7.依申请专利范围第1项所述之背光模组,其中角度 为不规则、非连续变化之V型沟槽之深度固定,但 间距则依角度及沟槽深度而变化。 8.依申请专利范围第1项所述之背光模组,其中光源 可为冷阴极灯管(CCFL)。 9.依申请专利范围第1项所述之背光模组,其中该光 源分别位于导光板之两对侧。 10.依申请专利范围第1项所述之背光模组,其中V型 沟槽为可为凸形V型沟槽。 11.依申请专利范围第1项所述之背光模组,其中所 述之V型沟槽可为凹形V型沟槽。 12.依申请专利范围第1项所述之背光模组,其中靠 近光源部分之两区域之微细镜面V型沟槽其角度为 不规则、非连续变化;其余中间区域之V型沟槽角 度则为固定或是连续、逐渐变化。 13.一种背光模组,包括: 一光源; 一导光板,其出光面(正面)或反射面(底面)上至少 一面分布有多数相互平行微细镜面V型沟槽,并对 应光源形成入光侧; 一反射片,系遮设于该导光板之反射面;及 一光学膜片,系遮设出光面,而形成出光侧; 其中部分区域之微细镜面V型沟槽其角度为不规则 非连续变化;其余区域之V型沟槽角度则为固定是 连续、逐渐变化。 14.依申请专利范围第13项所述之背光模组,其中各 相互平行的V型沟槽为可连续相接,或分开不相连 。 15.依申请专利范围第13项所述之背光模组,其中在 靠近入光侧处之V型沟槽其角度为不规则、非连续 变化。 16.依申请专利范围第13项所述之背光模组,其中在 靠近出光侧处之V型沟槽其角度为不规则、非连续 变化。 17.依申请专利范围第13项所述之背光模组,其中在 靠近入光侧处及出光侧处之V型沟槽其角度为不规 则非连续变化。 18.依申请专利范围第13项所述之背光模组,其中角 度为不规则、非连续变化之V型沟槽之间距固定, 但沟槽深度则依角度及间距而变化。 19.依申请专利范围第13项所述之背光模组,其中角 度为不规则、非连续变化之V型沟槽之深度固定, 但间距则依角度及沟槽深度而变化。 20.依申请专利范围第13项所述之背光模组,其中光 源可为冷阴极灯管(CCFL)。 21.依申请专利范围第13项所述之背光模组,其中V型 沟槽为可为凸形V型沟槽。 22.依申请专利范围第13项所述之背光模组,其中所 述之V型沟槽可为凹形V型沟槽。 图式简单说明: 第一图系习用导光板之剖面示意图。 第二图系背光模组示意图。 第三图系本发明之不规则改变角度V型沟槽位于入 光侧示意图。 第四图系本发明之不规则改变角度V型沟槽位于出 光侧示意图。 第五图系本发明之不规则改变角度V型沟槽位于入 光侧暨出光侧示意图。 第六图系本发明之不规则改变角度V型沟槽之间距 暨深度皆变化示意图。 第七图系本发明之不规则改变角度V型沟槽之间距 固定,深度变化示意图。 第八图系本发明之不规则改变角度V型沟槽之间距 变化,深度固定示意图。
地址 桃园县中坜市中园路170号