首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
Pattern lock system for particle-beam exposure apparatus
摘要
申请公布号
GB0708916(D0)
申请公布日期
2007.06.20
申请号
GB20070008916
申请日期
2005.11.15
申请人
IMS NANOFABRICATION GMBH
发明人
分类号
主分类号
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
IMIDAZO(4,5-B)PYRIDINE DERIVATIVES
FLUORINATED CARBAMATES
SULPHONAMIDE COMPOSITIONS
CHAIN DRIVE COVER
METHOD OF PROCESSING ALUMINOUS ORES
STRETCH WRAPPING APPARATUS AND METHOD
TRI DRIVER
SUBSTITUTED TETRAAZATRICYCLIC COMPOUNDS
SPRAY-DRYING OLEFIN POLYMERISATION CATALYSTS
BUTYL RUBBER COMPOSITION
DATA PROCESSING SYSTEM
BEAN BAG
POWER SUPPLY CIRCUIT
METHOD AND SYSTEM FOR CONTROLLING DRAIN WATER LEVEL OF FEED- WATER HEATER
ROTARY SPRINKLER
LAWN EDGE TRIMMER
ANCHOR BOLT
PRODUCING LIQUID RELIEF IMAGES ELECTROSTATIC CHARGE IMAGES
PERMEABLE DIAPHRAGM MADE FROM POLYMERIC MATERIAL
MINING MACHINE COMPONENT