| 发明名称 | 处理装置、气体放电抑制部件 | ||
| 摘要 | 提供了一种防止传热气体的放电，且可高精度进行被处理体的温度控制的处理装置。在向相对设置在密封处理容器(102)内的一对电极中的下部电极110施加高频功率，并将导入到电极间的处理气体等离子体化后，对被处理体表面进行规定处理的等离子体蚀刻装置(100)中，该等离子体装置由传热气体供给管(162)和传热气体供给管用阻挡件(164)构成，传热气体供给管(162)和传热气体供给管用阻挡件(164)使将被处理体控制为规定温度用的传热气体供给吸附保持被处理体的静电卡盘(112)和被处理体间的微小空间S内的传热气体供给部(120)相对由供给电极的高频功率所产生的电场方向倾斜。 | ||
| 申请公布号 | CN1322557C | 申请公布日期 | 2007.06.20 |
| 申请号 | CN02823839.7 | 申请日期 | 2002.11.27 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 桧森慎司;远藤升佐;永关一也;窪田知也;林大辅 |
| 分类号 | H01L21/3065(2006.01) | 主分类号 | H01L21/3065(2006.01) |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 1.一种处理装置，将高频功率施加给设置在密封处理容器内的电极，并将导入到所述处理容器内的处理气体等离子体化，对被处理体的表面进行规定的处理，其特征在于：具有传热气体供给路径，将用于控制所述被处理体为规定温度的传热气体，通过配置在所述电极下方的绝缘部件内，供给到位于设置在所述电极上、吸附保持所述被处理体的保持单元和所述被处理体之间的微小空间，所述传热气体供给路径中通过所述绝缘部件内的部分，相对所述保持单元保持面的法线方向形成为锯齿状。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||