发明名称 防粘垢剂、其制造方法与内壁面涂布防粘垢剂的聚合反应器以及使用该聚合反应器的乙烯基类聚合物的制造方法
摘要 下述式(1)表示的苯酚类、1-萘酚类与醛类的且可溶于碱性水溶液的缩合物为主成分的聚合反应器内的防粘垢剂。使用内壁面上有该防粘垢剂形成薄膜的聚合反应器进行乙烯基单体聚合时,可防止粘垢,制造乙烯基类聚合物。(式中,R<SUP>1</SUP>与R<SUP>2</SUP>相同或不同,是羟基、C<SUB>1</SUB>-C<SUB>8</SUB>的烷基、卤原子、氢原子、烷基部分的碳数为1-8的烷氧羰基或苯基,相对于羟基的邻位与对位中的至少两个位置存在氢原子。)
申请公布号 CN1322017C 申请公布日期 2007.06.20
申请号 CN01822605.1 申请日期 2001.12.12
申请人 株式会社德山 发明人 田邦男;金轮一彦;山本喜久雄
分类号 C08F2/00(2006.01) 主分类号 C08F2/00(2006.01)
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 王健
主权项 1.聚合反应器内的防粘垢剂,其特征在于以下述式(1)表示的苯酚类、1-萘酚类与醛类的且可溶于碱性水溶液的缩合物作为主成份,所述缩合物是用下述方法得到的:相对于1-萘酚类1摩尔,按0.01-2摩尔的比例使用苯酚类,相对于1-萘酚类与苯酚类的合计量1摩尔,按0.2-2摩尔的比例使用醛类,将这些物质缩合制得所述缩合物,<img file="C018226050002C1.GIF" wi="708" he="197" />式中,R<sup>1</sup>与R<sup>2</sup>相同或不同,是羟基、C<sub>1</sub>-C<sub>8</sub>的烷基、卤原子、氢原子、烷基部分的碳数为1-8的烷氧羰基或苯基,相对于羟基的邻位与对位中的至少两个位置存在氢原子。
地址 日本山口