基板处理装置及半导体装置的制造方法

摘要

一种基板处理装置，其特征为具备：收容基板且施以所定处理的处理室，及在该处理室内保持基板的基板保持具，及载置该基板保持具之下可移动上述处理室内外的载置台，及保持上述基板保持具之下移动到与上述载置台不相同的场所的基板保持具移动机构，及抑制用以维持上述基板保持具载置于该基板保持具移动机构的载置部之状态的上述基板保持具对水平方向与垂直方向移动的基板保持具移动抑制机构。