用于降低铜损耗及电压峰値之球形接触遮盖

摘要

本发明实施例大致提供一种于电化学机械平坦化设备中处理基材之方法及设备。于一实施例中，一用于电化学处理基材之接触组件包括一外罩，其具有一球部，设于一穿通该外罩之通道。该球部适于自该外罩部分延伸出以于制程期间接触该基材。该外罩至少包含一导电材料。于另一实施例中，该外罩至少包含一下外罩以及一接触盖件，其中该接触盖件包含一导电材料。