发明名称 | 奈米碳管场发射体及其制备方法 | ||
摘要 | 本发明涉及一种奈米碳管场发射体及其制备方法,该制备方法包括步骤:提供一奈米碳管阵列,其生长于一基体上,该奈米碳管阵列包括与基体接触之根部及相对远离基体之顶部;提供一阴极基底,其包括基底本体及形成于基底本体上之粘结剂层;将该奈米碳管阵列之顶部与粘结剂层接触,使奈米碳管阵列与阴极基底形成电接触;固化该粘结剂层,使该奈米碳管阵列与该阴极基底结合牢固;去除该基体以露出该奈米碳管阵列之根部,以获得一奈米碳管场发射体。本发明具有制备工艺简单、成本低,且制备之奈米碳管场发射体具有较佳场发射均匀性之特点。 | ||
申请公布号 | TW200719389 | 申请公布日期 | 2007.05.16 |
申请号 | TW094139697 | 申请日期 | 2005.11.11 |
申请人 | 鸿海精密工业股份有限公司 | 发明人 | 柳鹏;姜开利;刘锴;范守善 |
分类号 | H01J9/02(2006.01);H01J1/30(2006.01) | 主分类号 | H01J9/02(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | |||
地址 | 台北县土城市自由街2号 |