| 主权项 |
1.一种基板处理装置,其特征为具备有:基板载置台;上部具有开口且围绕前述基板载置台之杯状物;要关闭该杯状物之上部开口的盖;支撑该盖之支撑臂;具有以直接或间接地来支撑该支撑臂的第1活塞,及要导引升降该第1活塞用之第1缸筒的第1升降机构;具有以直接或间接地来支撑前述支撑臂用之第2活塞,及要导引升降该第2活塞用之第2缸筒的第2升降机构;个别供应压力流体给予前述第1及第2之缸筒,且从前述第1及第2之缸筒个别予以排气压力流体用之驱动回路;及个别控制该控制回路之动作用之控制机构。2.如申请专利范围第1项之基板处理装置,其中上述控制机构,将予以选择由上述第1及第2之升降机构之两者而与上述支撑臂一齐来升降盖,或由上述第1及第2之升降机构之任何一方而与上述支撑臂一齐来升降盖,并依据该选择而控制上述驱动回路之动作。3.如申请专利范围第1项之基板处理装置,其中上述控制机构,将控制上述驱动回路使之可由上述第1及第2之升降机构两者来使盖与上述支撑臂一齐升降。4.如申请专利范围第3项之基板处理装置,其中上述控制机构,将控制上述驱动回路使之可施加较要使盖与上述支撑臂一齐所需要之驱动力为不之驱动力于上述第1及第2之活塞之任何一方。5.如申请专利范围第1项之基板处理装置,其中上述第1活塞之行程(冲程)系与上述第2活塞之行程有不相同。6.如申请专利范围第1项之基板处理装置,其中上述第2活塞系至少会藉上述第1活塞来间接地支撑上述支持臂。7.如申请专利范围第1项之基板处理装置,其中上述第1活塞之行程为较上述第2活塞之行程为大(长),而在上升上述第1及第2之活塞直至上死点为止时,就可提高盖至可确保维修管理用之充分的空间于上述杯状物和盖之间的高度。8.如申请专利范围第1项之基板处理装置,其中上述支撑臂系由外伸2支之臂构件来支撑盖之构成者。9.如申请专利范围第1项之基板处理装置,其中更具备有在盖之升降动作产生异常时,会接收来自上述控制机构之信号而发生警报之机构。10.如申请专利范围第1项之基板处理装置,其中更具备有包括于上述驱动回路,且至少连通于上述第1及第2之缸筒中之一,以防止从上述第1及第2之缸筒之至少泄漏压力体之止回阀(check valve)。11.一种基板处理装置,其特征为具备有:基板载置台;上部具有开口且围绕前述基板载置台之杯状物;要关闭该杯状物之上部开口的盖;支撑该盖之支撑臂;具备要传达用以升降该支撑臂用之驱动力给予该支撑臂之活塞的缸筒机构;位于较该缸筒机构之活塞上死点更为上方位置之上带轮;位于较该上带轮位于下方位置之下带轮;被架设于该等上下带轮之间,并在其一方侧被扣接(固定)有前述支撑臂之无端环带;及为使与前述支撑臂及盖形成平衡而扣接在前述无端环带之另一侧之重物(锤)。12.如申请专利范围第11项之基板处理装置,其中上述重物乃较上述支撑肾及盖之总计重量更为重。图式简单说明:第一图系显示LCD基板处理系统概要的平面布置图。第二图系显示LCD基板处理系统概要的正面外观图。第三图系显示涂敷/周(边)缘涂膜去除单元之涂敷部的斜示(立体)图。第四图系显示涂敷/周边缘涂膜去除单元概要的平面图。第五图系显示从涂敷部之杯状物却下盖之状态的平面图。第六图系显示涂敷部之主要部分之透视剖面图。第七图系显示有关本发明之实施形态的基板处理装置之盖升降用缸筒机构的透视剖面图。第八图系显示杯状物和盖之分解斜视图。第九图系显示在涂敷处理时之盖升降用缸筒机构(关闭盖之状态)的放大剖面图。第十图系显示在涂敷处理时之盖升降用缸筒机构(打开盖之状态)的放大剖面图。第十一图系显示在维修检验时之盖升降用缸筒机构(提高盖至临限高度位置为止之状态)的放大剖面图。第十二图系显示有关本发明之实施形态的基板处理装置之方块回路图。第十三图系控速器(SC)之纵向剖面图。第十四图系快速排气阀(QEV)之纵向剖面图。第十五图系引示节制阀(PCV)之回路图。第十六图系显示基板处理方法的流程图。第十七图系显示有关本发明之实施形态的基板处理装置(基板处理时之打开盖之动作)的方块回路图。第十八图系显示有关本发明之实施形态的基板处理装置(基板处理时之关闭盖之动作)的方块回路图。第十九图系显示有关本发明之实施形态的基板处理装置(在维修检验时之盖的回避动作)的方块回路图。第二十图系显示有关本发明之实施形态的基板处理装置(在维修检验时之盖的回行动作)的方块回路图。第二十一图系显示有关本发明之其他实施形态的基板处理装置之平面图。第二十二图系显示有关本发明之其他实施形态的基板处理装置之部分剖面图。第二十三图系显示有关本发明之其他实施形态的基板处理装置之部分剖面图。第二十四图系显示有关本发明之其他实施形态的基板处理装置之部分剖面图。 |
