发明名称 制造用来复制高密度起伏结构的母模板之方法
摘要 本发明系关于一种制造一用来复制一高密度起伏结构的母模板之方法,该方法包含以下步骤:提供一母模基板(master substrate)(10),其包含一基板层(12)及一覆盖该基板层之记录堆叠,该记录堆叠包含一遮罩层(14)及一在该遮罩层与该基板层之间的界面层(16),且该遮罩层包含一相变(phase transition)材料,将一雷射束投射于该遮罩层之经选择区域(20)上,藉此引发一热相关相变,以改变该遮罩层之该等经选择区域相对于化学剂之性质,将一化学剂施用于该遮罩层,以移除该遮罩层之该等经选择区域,藉此暴露该界面层之区域(22),及电浆蚀刻该记录堆叠,藉此在该界面层之该等经暴露区域中形成讯坑(pit)(24)。本发明进一步系关于一种母模板及一种光碟。
申请公布号 TW200717515 申请公布日期 2007.05.01
申请号 TW095132038 申请日期 2006.08.30
申请人 皇家飞利浦电子股份有限公司 发明人 艾尔文 雷纳度 敏德斯;茱莲 珍 沙菲尔 迪 罗尼斯 德 弗米琼;FUMICHON, JULIEN JEAN XAVIER
分类号 G11B7/26(2006.01) 主分类号 G11B7/26(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 荷兰