| 发明名称 |
具抗反射性之遮罩毛胚及光罩 |
| 摘要 |
本发明系关于具有包括至少两次层之抗反射涂层的遮罩毛胚。此等双层或多层抗反射涂层有利于使用在用于曝光波长为300奈米或以下之微影术中之具改良抗反射性的二元及相移遮罩毛胚；及关于具有改良检查性质的EUVL遮罩毛胚。 |
| 申请公布号 |
TW200717178 |
申请公布日期 |
2007.05.01 |
| 申请号 |
TW095135533 |
申请日期 |
2006.09.26 |
| 申请人 |
首德公司 |
发明人 |
法兰克 施密特;法兰克 索贝尔;冈特 赫斯;汉斯 贝克;奥利佛 吉欧茨伯格;马库斯 雷诺;尤特 巴特葛瑞特 |
| 分类号 |
G03F1/08(2006.01);G03F1/14(2006.01) |
主分类号 |
G03F1/08(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
赖经臣;宿希成 |
| 主权项 |
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| 地址 |
德国 |
