发明名称 膜除去装置、膜除去方法和基板处理系统
摘要 本发明提供一种膜除去装置,它包括:基板保持部(60),保持具有涂布膜的基板;激光光源(63),将激光局部照射到该基板保持部上的基板的定位记号位置(14)上,将涂布膜从基板部分剥离;流体供给机构(113-116,201,202),具有向定位记号位置供给规定流体的主喷嘴(64,172,200);回收机构(90),具有在基板上将供给到定位记号位置的规定流体连同剥离了的膜成分吸引的吸引口(66a,171,193);和引导部件(65,170,191),将主喷嘴所喷出的规定流体引导到定位记号位置,同时引导到回收机构的吸引口使得规定的流体以及剥离了的膜成分不扩散到定位记号位置周围,并且不泄漏。
申请公布号 CN1312732C 申请公布日期 2007.04.25
申请号 CN02820803.X 申请日期 2002.12.17
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 寺田正一;吉高直人;饱本正巳
分类号 H01L21/027(2006.01);B05C5/00(2006.01);B05C11/10(2006.01);B05D3/00(2006.01) 主分类号 H01L21/027(2006.01)
代理机构 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人 龙淳
主权项 1.一种膜除去装置,其特征在于,包括:保持具有涂布膜的基板的基板保持部;用激光局部照射该基板保持部上的基板的规定位置,使所述涂布膜从基板上部分剥离的激光光源;具有对所述规定位置供给规定流体的主喷嘴的流体供给机构;具有将供给到所述规定位置的所述规定流体连同剥离后的膜成分从基板上吸收并除去的吸引口的回收机构;具有将所述主喷嘴喷出的所述规定流体引导至所述规定位置的槽,同时将所述规定流体以及剥离后的膜成分引导至所述回收机构的吸引口使得其不会在所述规定位置周围扩散、漏出的引导部件;和使所述引导部件接近所述规定位置而配置的机构。
地址 日本东京都