发明名称 用于形成半导体元件之接触孔的方法
摘要 提供一种形成半导体元件之接触孔的方法。形成复数个传导图案于一基板上。形成一绝缘层于该基板上以埋覆该些传导图案。含有一非晶形碳层与一氧化物系层之硬遮罩依序形成于绝缘层与传导图案上。选择性蚀刻该非晶形碳层与氧化物层以形成一遮罩图案。使用该遮罩图案作为一遮罩蚀刻该绝缘层以形成一接触孔。
申请公布号 TW200715471 申请公布日期 2007.04.16
申请号 TW095120888 申请日期 2006.06.13
申请人 海力士半导体股份有限公司 发明人 李圣权
分类号 H01L21/768(2006.01) 主分类号 H01L21/768(2006.01)
代理机构 代理人 何金涂;林荣琳
主权项
地址 韩国