| 主权项 |
1.一种光源方位之寻测纪录描述的方法, 兹将原点设定为相对座标参考値之基准中心,运用 介面测寻光线入射位置并藉此得知光源正确方位, 并利用注记孔将当下位置标示纪录于方位座标,藉 由座标经线及座标纬线或藉用量尺及刻度的测量, 就得以描述该光源与原点之相对座标方位的量値 数。 2.一种光源方位之寻测纪录描述的方法,其包含为: 提供介面,系设有贯穿之注记孔,乃是光源到原点 之间动态测寻与标记的辅助工具; 提供方位座标,系属静态被载录与分析比较的辅助 工具,乃是呼应各个方位之光源而根据原点周围所 拟制出具全方位性三度空间之球面座标; 提供原点,系测寻位置之中心,为方位座标的相对 基准。 3.如申请专利范围第2项所述之光源方位之寻测纪 录描述的方法,其中的介面为遮滤式介面,是用最 小面积界定出直射之光线,滤除相近及容易误判的 光线而提高精准度,其介面为不透光之材质,操作 测寻光源之相对方位时,以原点为中心周围移动调 整至光线能透过注记孔完整照射到原点之当下位 置,就是光源与原点的相对方位者。 4.如申请专利范围第2项所述之光源方位之寻测纪 录描述的方法,其中的介面为聚光式介面,是将大 面积光线聚焦于原点,乃中心穿设注记孔,具有聚 光功能之透镜为介面;操作测寻光源之相对方位时 ,兹在原点周围移动调整至光线当能完整聚焦于原 点之当下位置,就是光源与原点的相对方位者。 5.如申请专利范围第2项所述之光源方位之寻测纪 录描述的方法,其中的方位座标,得以选择适合测 寻标的性质之局部式、半球罩式或完全球体作为 使用实施者。 6.如申请专利范围第2或5项所述之光源方位之寻测 纪录描述的方法,其中的方位座标,表面绘制座标 经线与座标纬线,为倾斜角及方位角的量値衡量依 据者。 7.如申请专利范围第2或5项所述之光源方位之寻测 纪录描述的方法,其中的方位座标,周圆设方位角 刻度,配合量尺做倾斜角及方位角的测量操作者。 8.一种光源方位之寻测纪录描述的方法,其实施方 式为: (一)前置: 兹就寻测光源之空间定位,设立其参考座标之基准 原点校正水平,并依照座标经线或刻度比对正确方 位来摆置光源之相对性的方位座标; (二)寻测: 将介面随着方位座标表面作位置移动及方向调整, 当朝向受测光源之正确位置时,光线就会透过介面 聚焦或经由注记孔照射于原点; (三)纪录: 当下运用注记孔标示记号于方位座标,并按照各个 光源或其各时间点之相对方位,纪录在方位座标上 ; (四)描述: 是以记号在被注记于方位座标之同时,能表徵具体 形象模型呈现与量値化数据书面的双重描述功能, 即该记号位置所代表的光源与原点之间相对的方 位关系说明。 9.如申请专利范围第8项所述之光源方位之寻测纪 录描述的方法,其实施方式中的具体形象描述,是 以介面寻测光源所在后,注记孔纪录于方位座标的 记号,清楚了解各个固定光源相对于原点方位分布 情形外,并可针对移动的光源从各时间点诸多记号 排列情形推断出其运行轨迹;故此,光源与原点为 基准的方位座标之相对关系就能作直觉化立体呈 现说明者。 10.如申请专利范围第8项所述之光源方位之寻测纪 录描述的方法,其实施方式中的量値描述,是以方 位座标所标示的记号都代表着光源与原点的相对 方位,所以其方向角与倾斜角,经由座标经线与座 标纬线的区分界定,来获得描述该光源相对于原点 的方位量値之数据说明者。 11.申请专利范围第8或10项所述之光源方位之寻测 纪录描述的方法,其实施方式中的量値描述,是以 方位座标所标示的记号都代表着光源与原点的相 对方位,所以其方向角与倾斜角,藉用量尺及刻度 的测量来获得描述该光源相对于原点的方位量値 之数据式书面说明者。 图式简单说明: 图一系光源与光线之物理特性示意图。 图二系本发明一较佳具体实施例之遮滤式介面操 作示意图。 图三系本发明一较佳具体实施例之聚光式介面操 作示意图。 图四系本发明一较佳具体实施例之半球罩式方位 座标示意图。 图五系本发明一较佳具体实施例之完全球体方位 座标示意图。 图六系本发明方位座标一较佳具体实施例之座标 经线与座标纬线示意图。 图七系本发明方位座标一较佳具体实施例之刻度 配合量尺操作立体示意图。 |
