| 发明名称 |
METHOD FOR CLEANING AND METHOD FOR TREATING SUBSTRATE |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
KR20070037658(A) |
申请公布日期 |
2007.04.05 |
| 申请号 |
KR20077005759 |
申请日期 |
2007.03.12 |
| 申请人 |
TOKYO ELECTRON LIMITED |
发明人 |
KANNAN HIROSHI;TAMURA NOBORU;DOBASHI KAZUYA |
| 分类号 |
H01L21/304;B08B7/00;C23G5/00;H01J37/32;H01L21/3065;H01L21/311 |
主分类号 |
H01L21/304 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
