发明名称 离子注入机台工艺参数自动预调系统及方法
摘要 一种离子注入机台工艺参数自动预调系统及方法。其中,离子注入机台工艺参数自动预调系统包括:数据库、信息处理服务器及机台控制器。在数据库中,至少包括由站别代号、机台代号、晶片识别码及工艺参数所形成的信息,而信息处理服务器,用以获取晶片盒的识别码,以及依据所获取的晶片盒的识别码,自数据库获取信息。机台控制器,是依据信息的工艺参数调制晶片盒进行离子注入时所需的配方,且在同一时间信息处理服务器也会控制机械手臂将晶片盒加载至离子注入机台。
申请公布号 CN1308816C 申请公布日期 2007.04.04
申请号 CN02107191.8 申请日期 2002.03.14
申请人 旺宏电子股份有限公司 发明人 叶景丰
分类号 G06F9/44(2006.01);G06F17/00(2006.01) 主分类号 G06F9/44(2006.01)
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人 王学强
主权项 1.一种离子注入机台工艺参数自动预调系统,该离子注入机台具有至少一机械手臂,是经由一注入窗口将一晶片盒加载该离子注入机台,其特征为:该离子注入机台工艺参数自动预调系统包括:一数据库,至少包括由一站别代号、一机台代号、一晶片识别码及一工艺参数所形成的一信息;一信息处理服务器,用以获取该晶片盒的该识别码,以及依据所获取的该晶片盒的该识别码,自该数据库获取该信息;一机台控制器,依据该信息中的该工艺参数调制该晶片盒进行离子注入时所需的配方,且在同一时间该信息处理服务器控制该机械手臂将该晶片盒加载该离子注入机台;以及一识别码辨识器,连接该信息处理服务器,用以辨识放置于该机械手臂上的该晶片盒的该识别码。
地址 台湾省新竹科学工业园区力行路16号
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