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发明名称 PHOTORESIST RESIN COMPOSITION
摘要
申请公布号 KR20070036818(A) 申请公布日期 2007.04.04
申请号 KR20050091728 申请日期 2005.09.30
申请人 DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. 发明人 KIM, BONG GI;PARK, CHAN SEOK;JEON, SEUNG HUN;BAEK, NA YOUNG
分类号 G03F7/027;G03F7/028;G03F7/031 主分类号 G03F7/027
代理机构 代理人
主权项
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