液浸式曝光用液体以及液浸式曝光方法

摘要

本发明可于半导体制造等中的液浸曝光技术中，实现更微细的线／间距(line and space)图案的解析。本发明提供一种液浸式曝光用液体，其以饱和烃化合物为主成分，且于结构中含有不饱和键或者异原子之杂质的含量，分别为(i)具有共轭不饱和键的化合物总计为小于等于2 μg／mL，(ii)不具有共轭不饱和键而具有非共轭不饱和键的化合物总计为小于等于30 μg／mL，(iii)不具有不饱和键的胺类总计为小于等于15 μg／mL，(iv)(i)至(iii)以外的杂环状化合物、醇类、醚类以及含卤化合物总计为小于等于100 μg／mL。