| 发明名称 |
微电子装置中的钴无电镀敷 |
| 摘要 |
一种在微电子装置的制造中在以金属为基底的基材上沈积Co或Co合金之无电镀敷法与组成物，其包括一Co离子源，将沈积离子还原成金属于该基材上所用的还原剂，及系化合物安定剂。 |
| 申请公布号 |
TW200712256 |
申请公布日期 |
2007.04.01 |
| 申请号 |
TW095120711 |
申请日期 |
2006.06.09 |
| 申请人 |
安颂股份有限公司 |
发明人 |
文生 小潘尼卡西欧;陈庆云;查理斯 维尔威德;尼可莱 派特罗;克丽丝汀 威特;理查 贺图比斯 |
| 分类号 |
C23C2/04(2006.01);C23C2/14(2006.01);C22C19/07(2006.01) |
主分类号 |
C23C2/04(2006.01) |
| 代理机构 |
|
代理人 |
林志刚 |
| 主权项 |
|
| 地址 |
美国 |
