| 发明名称 | 透明导电膜形成用组合物、透明导电膜形成用溶液以及透明导电膜的形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明的组合物为一种透明导电膜用形成组合物，包括：水溶性铟化合物、含有卤素的水溶性有机锡化合物、和水溶性有机高分子化合物。本发明的透明导电膜的形成方法包括：i)把该组合物溶解在由水构成的溶剂或由水和有机溶剂构成的溶剂中而得的形成透明导电膜用的溶液涂布在基片上的工序；和ii)烧成涂膜的工序。该方法还可以包括iii)把烧成工序中得到的膜进行还原热处理的工序。 | ||
| 申请公布号 | CN1306522C | 申请公布日期 | 2007.03.21 |
| 申请号 | CN03148967.2 | 申请日期 | 2003.06.30 |
| 申请人 | 日亚化学工业株式会社 | 发明人 | 三好孝 |
| 分类号 | H01B1/00(2006.01);C01G15/00(2006.01);C01G19/00(2006.01);H01B5/14(2006.01);H01B13/00(2006.01) | 主分类号 | H01B1/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 王海川;樊卫民 |
| 主权项 | 1.透明导电膜形成用组合物，包括：水溶性铟化合物、含有卤素的水溶性有机锡化合物和选自聚乙烯醇、多氧化物类和聚乙烯基吡咯烷酮的至少一种水溶性有机高分子化合物。 | ||
| 地址 | 日本德岛县阿南市 | ||