| 摘要 |
本发明系一用以量测厚度之光反射外差式薄膜厚度计，包括：一光学光源装置，其系用以产生一双极化的分裂频率光束；一分离光束路径光学元件，其系用以传递该双极化的分裂频率光束，以一特定的入射角入射至一目标材料；一第一感测器，其系用以接收该双极化的分裂频率光束，以及产生一参考值讯号；一第二感测器，其系用以接收该目标材料的一双极化分裂频率光束，并产生一量测讯号；一相位移感测器，其系用以接收参考值讯号与该量测讯号，以及侦测该参考值讯号与该量测讯号之间的相位移；以及一资料处理器，其系用以透过该相位移演算该目标材料之厚度。 |
