用于薄膜材料的沉积和/或表面改性的电子束/微波气体喷射PECVD方法和设备

摘要

一种高质量等离子体强化表面改性或者CVD薄膜沉积的方法和设备。本发明使用微波(5)和电子束能量(6)以产生受激发的物质的等离子体，受激发的物质能够对基体(2)的表面进行改性或者沉积在基体上以形成所需的薄膜。本发明还使用一个气体喷射系统(3)以将反应物质引入到等离子体中。气体喷射系统(3)能够使沉积速度高于常规PECVD方法的沉积速度并且保持所需的高质量沉积材料。

主权项

1.一种等离子体喷射表面改性或者薄膜沉积的设备，所述设备包括：一个可抽空的沉积室；一种设置在所述可抽空的沉积室中的基体；一个向所述可抽空的沉积室提供原料气体的原料气体源，所述原料气体以超音速进入所述可抽空的沉积室内；其特征在于，所述设备还包括：一个向所述可抽空的沉积室提供电子束能量的电子束能量源；一个向所述可抽空的沉积室提供微波能量的微波能量源；以及所述电子束能量和所述微波能量进入所述可抽空的沉积室，使得所述电子束能量和所述微波能量撞击所述原料气体以产生受激发物质的高速等离子体，所述高速等离子体形成被引向所述基体的羽流，并且所述受激发物质根据所使用的所述原料气体对所述基体的表面进行改性或者沉积在所述基体上。