发明名称 |
光学补偿薄膜的制造方法、光学补偿薄膜、偏振片和液晶显示装置 |
摘要 |
本发明提供一种能够稳定且连续地制造相对于OCB方式的液晶显示装置具有优异的光学补偿功能、且光学不均小的光学补偿薄膜的方法。提供由该方法得到的光学补偿薄膜、使用该光学补偿薄膜的偏振片、液晶显示装置。所述光学补偿薄膜的制造方法具有以下工序:在支撑体上涂布含有聚合性液晶化合物的涂布液,形成液晶化合物层的工序;将上述液晶化合物层干燥后,使上述液晶化合物取向并将该取向固定,从而形成光学各向异性层的工序;固定上述液晶化合物的取向后,进一步在加热温度为40℃~150℃、加热时间为5秒~3000秒的条件下加热上述光学各向异性层的工序。 |
申请公布号 |
CN1920645A |
申请公布日期 |
2007.02.28 |
申请号 |
CN200610121346.2 |
申请日期 |
2006.08.22 |
申请人 |
富士胶片株式会社 |
发明人 |
伊藤洋士 |
分类号 |
G02F1/13363(2006.01);G02B5/30(2006.01) |
主分类号 |
G02F1/13363(2006.01) |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 |
代理人 |
陈建全 |
主权项 |
1、一种光学补偿薄膜的制造方法,该方法包括:在支撑体的表面或支撑体上涂布含有聚合性液晶化合物的涂布液,形成液晶化合物层的工序;在将所述液晶化合物层干燥的同时或干燥后,在大于等于液晶转化温度的温度下使所述液晶化合物取向并将该取向固定,从而形成光学各向异性层的工序;以及在固定所述液晶化合物的取向后,进一步加热所述光学各向异性层的工序,其特征在于,在加热所述光学各向异性层的工序中的加热温度为40℃~150℃、且加热时间为5秒~3000秒。 |
地址 |
日本神奈川县 |