| 摘要 |
本文提供屏蔽聚合物、纳入此等聚合物之屏蔽涂料组合物，及使用此等屏蔽涂料组合物在浸润式光微影期间抑制光阻组份溶解之方法。该等屏蔽聚合物可由一种或多种包含至少一个具有(三甲基甲矽烷氧基)甲矽烷基之单体合成，且应具有5,000至200,000道尔顿之重量平均分子量(Mw)。该(等)聚合物可与一种或多种有机溶剂组合来形成一屏蔽涂料组合物，此屏蔽涂料组合物可施于一光阻层而形成一屏蔽涂料层，足以在曝光制程期间抑制诸如PAG等组份溶于浸润液体中。该(三甲基甲矽烷氧基)甲矽烷基单体可与其他单体(尤其包括一极性基团之单体)组合来改良所得屏蔽涂料层在(例如)显影液中之疏水性及/或溶解性。 |
