使用空间光调制器的改进方法和装置

摘要

本发明涉及一种作为所施加的元件控制信号的函数的、用于校准空间光调制器中的元件的方法。多个元件被同时校准。一束电磁辐射被投射到SLM的至少一部分。在用于测量电磁辐射的强度的器件上形成所述SLM的所述部分的图像。通过将包括SLM的所述部分中的至少两个元件的子矩阵驱动成一串所施加的元件控制信号，或通过寻找在用于测量电磁辐射的强度的器件上给出相同的预定强度值的每个元件的控制信号并对N个不同的预定强度值执行上述步骤，将强度数据用作所施加的元件控制信号的函数，来产生元件校准数据。本发明还涉及一种具有这样的校准方法的、用于在工件上形成图案的装置。

主权项

1.一种用于校准在空间光调制器(SLM)中的多值元件的方法，包括步骤：将SLM的元件映射到检测器配置的相应元件；重复步骤：为一组SLM元件设置多值控制信号以产生一个目标剂量；通过在傅里叶平面上的空间滤波器将来自该组SLM元件的电磁辐射中继到检测器配置上，以便测量电磁辐射的剂量；相应于在检测器配置处的测量剂量和目标剂量之间的具体差值，调整该组SLM元件的多值控制信号；和当测量剂量和目标剂量之间的差值满足一个预定标准时，停止上述重复。