| 主权项 |
1.一种由雷射射束处理目标物之雷射处理装置,其 中包含: 一雷射产生器,发射一具预设直径之雷射射束; 一多角镜,具有复数个反射平面,该多角镜系于一 轴上旋转且于该等反射平面上反射发射自该雷射 产生器之雷射射束,该等反射平面之数量系经调整 以使该等反射平面被该雷射射束所覆盖;以及 一透镜,将自该多角镜所反射之雷射射束予以聚集 并将雷射射束照射于该目标物上。 2.如申请专利范围第1项所述之雷射处理装置,其进 一步包含: 一多角镜驱动器,按一预设角速度启动该多角镜; 一阶台,其上装设有该目标物;以及 一阶台传动单元,按一预设方向移动该阶台。 3.如申请专利范围第2项所述之雷射处理装置,其中 该阶台传动单元会朝向该多角镜旋转方向的相反 方向移动该阶台。 4.如申请专利范围第1项所述之雷射处理装置,其中 进一步包含一射束转换器,其将聚集于该透镜之雷 射射束的截面样式转换成椭圆形。 5.如申请专利范围第4项所述之雷射处理装置,其中 该射束转换器系使该椭圆形之长轴顺应于该目标 物的处理方向。 6.如申请专利范围第5项所述之雷射处理装置,其中 该椭圆形的短轴对应于该目标物的处理宽度,且可 按照该目标物种类及处理样式而改变。 7.如申请专利范围第1项所述之雷射处理装置,其中 系建立该反射平面的数量N,以保持各反射平面上 之损失率高于100%, 其中对于整个雷射射束入射于该多角镜之反射平 面由降低能量之雷射射束所构成的损失角度系按 如下方式所界定, ;并且 该多角镜之反射平面上的损失率可界定如下 其中该多角镜之圆周的半径为R;该雷射射束直径 为D;且从该多角镜中央到入射于该多角镜之雷射 射束中央的垂直高度为h。 8.一种利用于一轴上旋转之多角镜的处理方法,其 包含复数个相同长度的反射平面,以反射自一雷射 产生器所发射而具一预设直径之雷射射束,其中该 反射平面之数量系经建立以让入射雷射射束覆盖 两个以上的反射平面,该方法包含: 设置该目标物于一阶台上; 建立包含该多角镜旋转速度及该阶台传动速度之 控制参数; 按该预设之旋转速度旋转该多角镜于一轴上; 按该预设之传动速度移动该阶台; 将该雷射射束照射于各反射平面上,覆盖两个以上 的反射平面,其数量系经建立以由该雷射射束所覆 盖;以及 将该雷射射束之各分割聚焦于一透镜上,并将该聚 集之雷射射束照射于该目标物上。 9.如申请专利范围第8项所述之方法,其进一步包含 的步骤为,在将雷射射束照射于该多角镜反射平面 上之前,先扩大该雷射射束直径。 10.如申请专利范围第8项所述之方法,其中进一步 包含的步骤为,在聚集该雷射射束各分割之后以及 在将该聚集之雷射射束照射于该目标物之前,将该 雷射射束截面转换成一椭圆形样式。 11.如申请专利范围第10项所述之方法,其中将该雷 射射束截面转换成一椭圆形样式的步骤系令该椭 圆形样式之长轴顺应于该目标物的处理方向。 12.如申请专利范围第10项所述之方法,其中该雷射 射束之椭圆形样式的短轴对应于该目标物的处理 宽度,且可按照该目标物种类及处理样式而改变。 13.如申请专利范围第8项所述之方法,其中移动该 阶台系将该阶台朝向该多角镜旋转方向的相反方 向而传动。 图式简单说明: 图1A到1C系说明利用一多角镜之雷射处理方法。 图2系说明在该多角镜反射平面角落处之能量损失 现象。 图3A及3B说明一雷射射束照射中之多角镜内的能量 损失现象。 图4系描绘参照该雷射射束直径之该多角镜圆周半 径与该多角镜反射平面数量之间的关系。 图5系说明藉由一根据本发明之多角镜来处理一目 标物。 图6系根据本发明一具体实施例之具有多角镜的雷 射处理装置结构图。 图7系根据本发明另一具体实施例之具有多角镜的 雷射处理装置结构图。 图8系一藉由根据本发明之多角镜的雷射处理方法 流程图。 |
