| 主权项 |
1.一种校正一检测视窗(inspection window)之方法,该检 测视窗系用以设定一检测配方(recipe),依据该检测 配方可进行一数位信号处理检测作业以检测一物 件上之一缺陷,校正该检测视窗之方法包含以下步 骤: 扫描该物件,并取得该物件之一全面影像; 在该全面影像内建立该检测视窗; 在该全面影像内标示至少一记号; 建立至少一调整视窗,使得该些记号可分别位于该 些调整视窗内;以及 调整该调整视窗之一属性(attribute),使得该检测视 窗可自动校正。 2.如申请专利范围第1项所述之方法,其中调整该调 整视窗之属性系调整至少一属性参数。 3.如申请专利范围第2项所述之方法,其中该属性参 数包括该记号之一线宽、一线长、一误差値、一 侦测敏感度、一对比程度、一杂讯値、一颜色或 一位置。 4.如申请专利范围第1项所述之方法,更包含以下步 骤: 在该检测视窗内设定至少一检测缺陷条件( inspection defect terms); 确认该些检测缺陷条件;以及 储存一检测配方之名称。 5.如申请专利范围第1项所述之方法,进一步包含步 骤:针对该检测视窗设定一参数。 6.如申请专利范围第5项所述之方法,其中该参数包 含一切线(slice)。 7.如申请专利范围第6项所述之方法,其中该参数包 含一数位信号处理之系数。 8.如申请专利范围第4项所述之方法,其中设定该检 测配方,系包含建立一新的检测配方或选择一现存 的检测配方。 9.如申请专利范围第8项所述之方法,如果设定该检 测配方的步骤系建立一新的检测配方,则扫描该物 件之前先建立一新的检测配方名称,且储存该检测 配方之名称系保留该新的检测配方名称。 10.如申请专利范围第8项所述之方法,如果设定该 检测配方的步骤系选择一现存的检测配方,则扫描 该物件之前先选择一现存的检测配方名称,且储存 该检测配方之名称系另存一第二检测配方名称或 覆写储存(overwrite)该现存的检测名称。 11.如申请专利范围第1项所述之方法,其中取得该 物件之全面影像的步骤系以至少一感光耦合元件( CCD)取得该物件之全面影像。 12.如申请专利范围第4项所述之方法,其中该些检 测缺陷条件包含一微小(Micro)缺陷检测条件或一巨 大(Macro)缺陷检测条件。 13.如申请专利范围第12项所述之方法,其中该微小 缺陷检测条件包含一图案缺陷检测条件或一异物 缺陷检测条件。 14.如申请专利范围第12项所述之方法,其中该巨大 缺陷检测条件包含一晕染缺陷检测条件、一亮度 不均匀(Mura)缺陷检测条件或一污点缺陷检测条件 。 15.如申请专利范围第4项所述之方法,其中该些检 测缺陷条件包含一明缺陷检测条件或一暗缺陷检 测条件。 16.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该物件 为一液晶显示器基板、一电浆显示器基板、一有 机电激发光(Organic EL)显示器基板、一彩色滤镜基 板、一晶圆或一玻璃基板。 图式简单说明: 图1为依据本发明之一实施例之校正检测视窗之流 程图。 图2为依据本发明之一实施例,显示扫描物件之示 意图。 图3为依据图2之标号3之局部放大显示图,系显示本 发明之调整视窗及其记号之示意图。 图4为依据本发明之调整属性参数输入介面之示意 图。 图5为依据本发明之一实施例,显示依据经校正之 后的检测视窗设定检测配方之流程图。 图6为依据图2之标号6的区域经过数位信号处理之 放大显示图。 图7为依据本发明之一实施例,显示设定检测视窗 之参数之示意图。 图8为依据本发明之一实施例,显示具有缺陷之全 面影像信号与经过数位信号处理之后的信号示意 图。 |
