发明名称 具孔洞之介电基板及其制造方法
摘要 本发明之一方面揭示一种形成一介电基板内之孔洞的方法,其包含以下步骤:对一介电基板应用一层光阻;透过一光罩将该光阻之部分曝露于光化辐射,以针对欲在该基板内蚀刻之一孔洞阵列形成该光阻内之一图案;将该光阻显影;蚀刻该介电基板,以形成一孔洞阵列,各孔洞至少部分穿过该介电基板;以及移除该过量光阻。本发明之另一方面揭示一种同时形成一介电基板内之孔洞的方法,某些孔洞部分穿过该基板,某些孔洞完全穿过该基板。本发明之其他方面系使用本发明之该等方法形成的介电基板。
申请公布号 TW200706081 申请公布日期 2007.02.01
申请号 TW095122071 申请日期 2006.06.20
申请人 3M新设资产公司 发明人 李勇进;付一良;小柳达则;大仓启幸;伊东正彦
分类号 H05K3/06(2006.01) 主分类号 H05K3/06(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文;简秀如
主权项
地址 美国