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发明名称
具孔洞之介电基板及其制造方法
摘要
本发明之一方面揭示一种形成一介电基板内之孔洞的方法,其包含以下步骤:对一介电基板应用一层光阻;透过一光罩将该光阻之部分曝露于光化辐射,以针对欲在该基板内蚀刻之一孔洞阵列形成该光阻内之一图案;将该光阻显影;蚀刻该介电基板,以形成一孔洞阵列,各孔洞至少部分穿过该介电基板;以及移除该过量光阻。本发明之另一方面揭示一种同时形成一介电基板内之孔洞的方法,某些孔洞部分穿过该基板,某些孔洞完全穿过该基板。本发明之其他方面系使用本发明之该等方法形成的介电基板。
申请公布号
TW200706081
申请公布日期
2007.02.01
申请号
TW095122071
申请日期
2006.06.20
申请人
3M新设资产公司
发明人
李勇进;付一良;小柳达则;大仓启幸;伊东正彦
分类号
H05K3/06(2006.01)
主分类号
H05K3/06(2006.01)
代理机构
代理人
陈长文;简秀如
主权项
地址
美国
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