| 摘要 |
本发明提供膜图案之形成方法、主动矩阵基板、光电装置及电子机器，其在已分割之图案形成区域形成具覆盖层之膜图案时，藉由将其形成步骤简化，提升膜图案的生产性。在基板P上系形成用以划分图案形成区域之岸堤51，该图案形成区域系具备第一图案形成区域52、53；及由交叉部56所分割之第二图案形成区域55。接着，在第一图案形成区域52、53形成第一膜图案，在第二图案形成区域形成第二膜图案后，对基板全面施以拨液处理。之后，选择性保持第二膜图案各特定位置的拨液性，使基板上的拨液性低下。在第一膜图案、及第二膜图案上积层覆盖层，并去除第二膜图案各特定位置的拨液性，以利用导电膜连接各特定位置间。 |
