| 主权项 |
1.一种玻璃熔炉,其系为藉由加热一玻璃原料使其 熔融形成一熔融玻璃之一玻璃熔炉,该玻璃熔炉包 括: 一投入口,用以投入该玻璃原料; 一取出口,用以取出该熔融玻璃; 一熔融槽,用以储存保留该玻璃原料及该熔融玻璃 一段设定时间; 一加热装置,用以加热被投入至该熔融槽内之该玻 璃原料及该熔融玻璃;以及 一稀有气体溶解装置,用以从一稀有气体导入口供 给氦气及/或氖气,并在该熔融玻璃中扩散混合, 使该熔融玻璃溶解具有设定浓度以上的氦气及/或 氖气。 2.如申请专利范围第1项所述之玻璃熔炉,其中溶解 的氦气及/或氖气之浓度为0.0001微升/克(1/g)(0℃ 、1大气压(atm))以上。 3.如申请专利范围第1项所述之玻璃熔炉,其中该稀 有气体溶解装置之至少一部分浸渍在该熔融玻璃 中。 4.如申请专利范围第1项所述之玻璃熔炉,其中该稀 有气体溶解装置设置在该熔融玻璃之内部、上方 、下方及侧方之中,至少任一位置上。 5.如申请专利范围第1项所述之玻璃熔炉,其中该稀 有气体溶解装置具备有至少选自一加热装置、一 减压装置、一离心力产生装置所组之群组之其中 之一个以上。 6.如申请专利范围第5项所述之玻璃熔炉,其中该加 热装置包括由耐热性容器所构成一个以上的槽。 7.如申请专利范围第1项所述之玻璃熔炉,其中该稀 有气体溶解装置在与该熔融玻璃流动方向夹一向 量角0度-80度、50度-130度、100度-180度之任一个方 向产生氦气及/或氖气之气体流。 8.如申请专利范围第1项所述之玻璃熔炉,其中该稀 有气体溶解装置是由耐热性金属及/或陶瓷所构成 。 9.如申请专利范围第1项所述之玻璃熔炉,更包括: 一稀有气体脱气装置,从经氦气及/或氖气扩散 混合后之该熔融玻璃中使含有氦气及/或氖气之气 体脱气,该稀有气体脱气装置设置在该熔融玻璃之 内部、上方、下方或侧方之中,至少之任一位置上 。 10.如申请专利范围第9项所述之玻璃熔炉,其中该 稀有气体脱气装置具有至少选自一加热装置、一 减压装置、一离心力产生装置所组之群组之其中 之一个以上。 11.如申请专利范围第10项所述之玻璃熔炉,其中该 稀有气体脱气装置具备有设置于该熔融玻璃上方 的一稀有气体集聚室。 12.如申请专利范围第1项所述之玻璃熔炉,其中该 稀有气体溶解装置具备多个稀有气体导入口。 13.如申请专利范围第11项所述之玻璃熔炉,其中该 多个稀有气体导入口系设置于炉床及/或炉壁。 14.如申请专利范围第13项所述之玻璃熔炉,其中该 多个稀有气体导入口是由具有1000℃以上之融点的 金属所构成。 15.如申请专利范围第1项所述之玻璃熔炉,其中该 稀有气体溶解装置系设置在连接该熔融槽下游侧 之一稀有气体溶解槽内。 16.如申请专利范围第15项所述之玻璃熔炉,其中该 稀有气体溶解槽之下游侧连接一澄清槽。 17.如申请专利范围第15项所述之玻璃熔炉,其中该 稀有气体溶解槽之内壁面是由具有1200℃以上之耐 火温度之一耐火炼瓦或具有1200℃以上之融点之一 耐热性金属所构成。 18.如申请专利范围第17项所述之玻璃熔炉,其中该 耐火炼瓦含有从SiO2、ZrO2、Al2O3、MgO、Cr2O3、C及WO3 所组之群组中选择的至少一种以上的物质。 19.如申请专利范围第17项所述之玻璃熔炉,其中该 耐热性金属含有从Pt、Ir、Os、Re、W、Ta、Rh、Hf、 Ru、Tc、Pd、Mo、Ti、Zr及Nb所组之群组中选择的至 少一种以上的物质。 20.一种玻璃制造方法,系为藉由加热一玻璃原料使 其熔融形成一熔融玻璃之玻璃的制造方法,该方法 包括: 藉由于该熔融玻璃中导入含有氦气及/或氖气之平 均直径150mm以下的气泡,使氦气及/或氖气在该熔融 玻璃中扩散混合,而使该熔融玻璃含有设定量之 氦气及/或氖气。 图式简单说明: 第1图为绘示本发明之一实施例的玻璃熔炉之结构 图;第1图(X1)为玻璃熔炉的侧视剖面图(第1图(Y)的X1 -X1剖面);第1图(X2)为稀有气体溶解装置之周边部的 部分剖面图(第1图(Y)的X2-X2剖面);第1图(Y)为玻璃熔 炉的上视剖面图。 第2图为绘示本发明之其他实施例的稀有气体溶解 装置的部分剖面图。 第3图为绘示本发明之其他实施例的稀有气体溶解 装置的部分剖面图。 第4图为绘示第3图中的E-E剖面图。 第5图为绘示本发明之其他实施例的稀有气体溶解 装置的部分剖面图。 第6图为绘示本发明之其他实施例的稀有气体溶解 装置的部分剖面图。 第7图为绘示在实验室中进行本发明之实验的相关 说明图。 第8图为绘示在实验室中进行本发明之其他实验的 相关说明图。 第9图为绘示本发明之其他实施例的稀有气体溶解 装置的部分剖面图。 第10图为绘示本发明之其他实施例之玻璃熔炉的 侧视剖面图。 第11图为绘示习知的连续式熔炉的侧剖面图。 第12图为绘示习知的批式熔炉的侧剖面图。 |
