| 主权项 |
1.一种产生光罩之方法,该等光罩用于利用双极照 明将一具有垂直定向部件及水平定向部件的图案 印刷于一基板上,该方法包括下列步骤: 识别包含于该图案中的背景区域; 于该等背景区域中产生一包含不可解析水平定向 部件的垂直组件光罩;及 于该背景区域中产生一包含不可解析垂直定向部 件的水平组件光罩。 2.根据申请专利范围第1项之产生光罩之方法,其中 该产生该垂直组件光罩之步骤包括: 识别包含于该图案中的水平定向部件并向该等水 平定向部件提供屏蔽;及 将光学近似校正辅助部件涂敷于包含于该图案中 的垂直定向部件上, 利用该垂直组件光罩将该垂直定向部件成像于该 基板上。 3.根据申请专利范围第1项之产生光罩之方法,其中 该产生该水平组件光罩之步骤包括: 识别包含于该图案中的垂直定向部件并向该等垂 直定向部件提供屏蔽;及 将光学近似校正辅助部件涂敷于包含于该图案中 的水平定向部件, 利用该水平组件光罩将该等水平定向部件成像于 该基板上。 4.根据申请专利范围第1项之产生光罩之方法,其中 该等背景区域不包含任何欲成像于该基板上的部 件。 5.根据申请专利范围第1项之产生光罩之方法,其中 该等不可解析水平定向部件包括复数个相互平行 延伸的单独线,每一该等单独线皆具有相同宽度。 6.根据申请专利范围第5项之产生光罩之方法,其中 该等不可解析水平定向部件具有相同间距。 7.根据申请专利范围第1项之产生光罩之方法,其中 该等不可解析垂直定向部件包括复数个相互平行 延伸的单独线,每一该等单独线皆具有相同宽度。 8.根据申请专利范围第7项之产生光罩之方法,其中 该等不可解析垂直定向部件具有相同间距。 9.一种利用双极照明将一图案印刷于一基板上的 方法,其中该图案具有垂直定向部件及水平定向部 件,该方法包括下列步骤: 识别包含于该图案中的背景区域; 于该等背景区域中产生一包含不可解析水平定向 部件的垂直组件光罩; 于该背景区域中产生一包含不可解析垂直定向部 件的水平组件光罩; 利用一X-极照明来照明该垂直组件光罩;及 利用一Y-极照明来照明该水平组件光罩。 10.根据申请专利范围第9项之方法,其中该产生该 垂直组件光罩之步骤包括: 识别包含于该图案中的水平定向部件并向该等水 平定向部件提供屏蔽;及 将光学近似校正辅助部件涂敷于包含于该图案中 的垂直定向部件。 11.根据申请专利范围第9项之方法,其中该产生该 水平组件光罩之步骤包括: 识别包含于该图案中的垂直定向部件并向该等垂 直定向部件提供屏蔽;及 将光学近似校正辅助部件涂敷于包含于该图案中 的水平定向部件。 12.根据申请专利范围第9项之方法,其中该等背景 区域不包含任何欲成像于该基板上的部件。 13.根据申请专利范围第10项之方法,其中该屏蔽可 防止当照明该垂直组件光罩时照明该等水平定向 组件。 14.根据申请专利范围第11项之方法,其中该屏蔽可 防止当照明该水平组件光罩时照明该等垂直定向 组件。 15.根据申请专利范围第9项之方法,其中该等不可 解析水平定向部件包括复数个相互平行延伸的单 独线,每一该等单独线皆具有相同宽度。 16.根据申请专利范围第15项之方法,其中该等不可 解析水平定向部件具有相同间距。 17.根据申请专利范围第9项之方法,其中该等不可 解析垂直定向部件包括复数个相互平行延伸的单 独线,每一该等单独线皆具有相同宽度。 18.根据申请专利范围第17项之方法,其中该等不可 解析垂直定向部件具有相同间距。 19.一种用于产生光罩之装置,该等光罩用于将一具 有垂直定向部件及水平定向部件的图案印刷于一 基板上,该装置包括: 用于识别包含于该图案中的背景区域的构件; 用于在该等背景区域中产生一包含不可解析水平 定向部件的垂直组件光罩的构件;及 用于在该背景区域中产生一包含不可解析垂直定 向部件的水平组件光罩的构件。 20.根据申请专利范围第19项之装置,其中该等背景 区域不包含任何欲成像于该基板上的部件。 21.根据申请专利范围第19项之装置,其中该等不可 解析水平定向部件包括复数个相互平行延伸的单 独线,每一该等单独线皆具有相同宽度。 22.根据申请专利范围第21项之装置,其中该等不可 解析水平定向部件具有相同间距。 23.根据申请专利范围第19项之装置,其中该等不可 解析垂直定向部件包括复数个相互平行延伸的单 独线,每一该等单独线皆具有相同宽度。 24.根据申请专利范围第23项之装置,其中该等不可 解析垂直定向部件具有相同间距。 25.一种用于控制一电脑的电脑程式产品,其包括: 一可由该电脑读取的记录媒体;记录于该记录媒体 上的构件,其用于引导该电脑产生对应于光罩之档 案,以在一多次曝光光刻成像制程中印刷一具有垂 直定向部件及水平定向部件的图案,该等档案之产 生包括下列步骤: 识别包含于该图案中的背景区域; 于该等背景区域中产生一包含不可解析水平定向 部件的垂直组件光罩;及 于该背景区域中产生一包含不可解析垂直定向部 件的水平组件光罩。 26.根据申请专利范围第25项之电脑程式产品,其中 该产生该垂直组件光罩之步骤包括: 识别包含于该图案中的水平定向部件并向该等水 平定向部件提供屏蔽;及 将光学近似校正辅助部件涂敷于包含于该图案中 的垂直定向部件上, 利用该垂直组件光罩将该等垂直定向部件成像于 该基板上。 27.根据申请专利范围第25项之电脑程式产品,其中 该产生该水平组件光罩之步骤包括: 识别包含于该图案中的垂直定向部件并向该等垂 直定向部件提供屏蔽;及 将光学近似校正辅助部件涂敷于包含于该图案中 的水平定向部件上, 利用该水平组件光罩将该等水平定向部件成像于 该基板上。 28.根据申请专利范围第25项之电脑程式产品,其中 该等背景区域不包含任何欲成像于该基板上的部 件。 29.根据申请专利范围第25项之电脑程式产品,其中 该等不可解析水平定向部件包括复数个相互平行 延伸的单独线,每一该等单独线皆具有相同宽度及 相同间距。 30.根据申请专利范围第25项之电脑程式产品,其中 该等不可解析垂直定向部件包括复数个相互平行 延伸的单独线,每一该等单独线皆具有相同宽度及 相同间距。 图式简单说明: 图1阐释屏蔽对产生于双极照明的空间影像之影响 ; 图2a及图2b分别阐释用于印刷垂直部件及水平部件 的全固体屏蔽光罩之实例; 图3a及图3b阐释一对应于图2a及图2b之光罩的模拟 抗蚀剂图案; 图4阐释一无限光栅之二元明暗度光罩透射; 图5a及图5b阐释本发明次解析度光栅区块(SGB)结合 双极照明的应用; 图6阐释SGB之最小可解析间距的一计算实例; 图7阐释一实例性流程图,该流程图阐释将屏蔽线 涂敷于本发明光罩图案之制程; 图8阐释一欲成像于一晶圆上的实例性目标图案; 图9a及图9b阐释对应于图8之目标图案且其上已涂 敷屏蔽及OPC辅助部件的垂直组件图案及水平组件 图案; 图10a及图10b阐释涂敷于图9a及图9b所示垂直组件图 案及水平组件图案的SGB; 图11包含一归纳图8-10所示各种图案之图案覆盖率 增长之表; 图12a及图12b阐释在双重双极曝光制程中利用包含 本发明SGB屏蔽的图10a及图10b所示垂直及水平光罩 的一空间影像模拟之结果; 图13a及图13b阐释对包含于图2a及图2b所示区域30中 的光罩图案部分的全抗蚀剂模型模拟之结果; 图14a及图14b阐释因使用SGB屏蔽而获得的曝光范围 之提高; 图15a-15c阐释SGB如何影响制程曝光范围或实际元件 ; 图16阐释在使用及未使用本发明SGB时,量化光斑量 的「科克(Kirk's)」隐显盒试验(disappearing box test)之 结果; 图17示意性展示一适于与借助本发明而设计的光 罩共同使用的光刻投影装置; 图18a及图18b阐释可环绕曝光区域长度的连续性SGB 线之应用。 |
