| 发明名称 | 感应耦合等离子体处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种感应耦合等离子体处理装置。该感应耦合等离子体处理装置包括：反应室；基底支架，用于在反应室中形成等离子体空间并用于支撑在其中的处理基底；屏蔽件，设置在基底支架的侧面；多个开口，形成在基底的下方；线天线，在反应室的下部，高频功率信号被施加到线天线。因此，该感应耦合等离子体处理装置可均匀地分布等离子体的密度，使得可实现大尺寸的平板显示器。 | ||
| 申请公布号 | CN1901774A | 申请公布日期 | 2007.01.24 |
| 申请号 | CN200610106329.1 | 申请日期 | 2006.07.19 |
| 申请人 | 三星SDI株式会社 | 发明人 | 李奎成;金汉基;金度根;金明洙 |
| 分类号 | H05H1/46(2006.01);H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | H05H1/46(2006.01) |
| 代理机构 | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人 | 韩明星;韩素云 |
| 主权项 | 1、一种感应耦合等离子体处理装置，包括：反应室；基底支架，被设置以在所述反应室中形成等离子体空间，并被构造为支撑在其中的基底；屏蔽件，与所述基底支架邻近设置；多个开口，形成在所述反应室中所述基底支架的下方；线天线，位于所述反应室的下方，其中，所述线天线被构造为接收高频功率信号。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道水原市 | ||