发明名称 基板处理装置、涂敷装置及涂敷方法
摘要 提供一种不使用旋转机构,就可以使基板的被处理面朝向下方吸附在吸附板上的基板处理装置、涂敷装置及涂敷方法。该涂敷装置(1a),利用基板处理单元(2)的毛细管现象使储存在基板(10)下方的涂敷液上升,使所上升的所述涂敷液接触朝向下方的基板(10)的被涂敷面,通过使基板处理单元(2)和基板(10)相对移动,在被涂敷面上形成涂敷膜,该涂敷装置具有:可以自由装卸地保持基板(10)的保持单元(5a);在使基板(10)的被处理面朝向下方的状态下,从保持单元(5a)吸附基板(10)的吸附单元(3);和使基板处理单元(2)和/或吸附单元(3)在水平面内移动的移动单元(4)。
申请公布号 CN1296145C 申请公布日期 2007.01.24
申请号 CN200410033716.8 申请日期 2004.04.09
申请人 HOYA株式会社 发明人 元村秀峰
分类号 B05C13/00(2006.01);B05C5/02(2006.01);B05C11/105(2006.01);B05D1/26(2006.01) 主分类号 B05C13/00(2006.01)
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 代理人 权鲜枝
主权项 1.一种基板处理装置,其特征在于,具有:可以自由装卸地保持基板的保持单元;在使所述基板的被处理面朝向下方的状态下,从所述保持单元吸附所述基板的吸附单元;设在所述基板的下方,对所述基板的被处理面进行处理的处理单元;和使所述处理单元和/或所述吸附单元在水平面内移动的移动单元;所述保持单元,在装卸基板时转动规定角度,把基板在垂直的方向上立起或者倾倒。
地址 日本东京