发明名称 新颖聚合物及其用途
摘要 聚合物(B)藉将一种或以上之乙烯系单体(c)于存在聚合物(A)下聚合而制备,该聚合物(A)藉选自通式(1)代表之乙烯系单体所组成族群中之一种或以上之乙烯系单体(a)及其盐:[式中R1代表氢原子或具有1至3个碳原子之低碳烷基及n为整数1至8]与一种或以上可与乙烯系单体成分(a)共聚之乙烯系单体(b)聚合而制备。
申请公布号 TWI271410 申请公布日期 2007.01.21
申请号 TW090124043 申请日期 1998.11.26
申请人 三井化学股份有限公司 发明人 伊藤博;大山晋;淀谷隆;坪井贤次;松原次男;中村健一;土岐宏俊;山上晋哉;大柳俊树;清田谦三
分类号 C08F20/38(2006.01);D21H17/33(2006.01);D21H17/41(2006.01) 主分类号 C08F20/38(2006.01)
代理机构 代理人 赖经臣 台北市松山区南京东路3段346号1112室;宿希成 台北市松山区南京东路3段346号1112室
主权项 1.一种阳离子聚合物(C),其藉由聚合物(B)进行赫夫 曼降解来制备,其中聚合物(B)系藉由一种或以上之 乙烯系单体(c)于存在聚合物(A)下聚合而制备,该聚 合物(A)藉选自通式(1)代表之乙烯系单体所组成族 群中之一种或以上乙烯系单体(a)及其盐: [式中R1代表氢原子或具有1至3个碳原子之低碳烷 基,及n为整数1至8]与一种或以上可与乙烯系单体 成分(a)共聚之乙烯系单体(b)聚合而制备;以及 乙烯系单体(b)及(c)之一或二者包含具醯胺基之单 体者,于硷性pH値下进行赫夫曼降解而制备。 2.如申请专利范围第1项之阳离子聚合物(C),其中具 有醯胺基之单体为(甲基)丙烯醯胺。 3.如申请专利范围第1项之阳离子聚合物(C),其中聚 合物(B)含有0.1至99.9莫耳%聚合物(A)之单体。 4.如申请专利范围第1项之阳离子聚合物(C),其中聚 合物(B)之重量平均分子量为100,000至10,000,000。 5.如申请专利范围第1项之阳离子聚合物(C),其中该 赫夫曼降解为聚合物(B)与次卤酸盐在硷性pH値及 温度为50至110℃下反应。 6.一种纸强化剂,其包含申请专利范围第1项之阳离 子聚合物(C)。 7.一种助排水剂,其包含申请专利范围第1项之阳离 子聚合物(C)。 8.一种阳离子聚合物(C)之制法,其包含下列步骤: 制备聚合物(A),其藉将选自通式(1)代表之乙烯系单 体所组成族群中之一种或以上乙烯系单体(a)及其 盐: [式中R1代表氢原子或具有1至3个碳原子之低碳烷 基,及n为整数1至8]与一种或以上可与乙烯系单体 成分(a)共聚之乙烯系单体(b)予以聚合而制备; 于存在聚合物(A)下聚合一种或以上乙烯系单体(c) 以制备聚合物(B); 于硷性pH値下进行聚合物(B)之赫夫曼降解;以及 其中乙烯系单体(b)及(c)之一者或二者包含具醯胺 基之单体。
地址 日本