发明名称 |
微影装置及器件制造方法 |
摘要 |
一湿浸式微影装置具备一液体约束结构,该结构至少局部地界定一被建构为在投影系统与基板间容纳液体的空间。为了减少正在被成像之基板之边缘的交叉(此可导致浸渍液中含有气泡),该空间在一平行于基板之平面内的截面积被制作成尽可能地小。最小理论大小是由投影系统成像之目标部分的大小。在一实施例中,投影系统之一最终元件的形状亦被改变成在一平行于基板之横截面内拥有与目标部分相似的大小及/或形状。 |
申请公布号 |
TW200702938 |
申请公布日期 |
2007.01.16 |
申请号 |
TW095114176 |
申请日期 |
2006.04.20 |
申请人 |
ASML公司 |
发明人 |
包伯 史崔弗科;史乔德 尼可拉斯 蓝伯特斯 当德斯;NICOLAAS LAMBERTUS;罗洛夫 费德瑞克 迪 葛瑞夫;克莉丝汀娜 艾利珊卓 胡甄丹;ALEXANDER;汉斯 强森;马汀斯 汉德利克斯 安东尼斯 里恩德斯;MARTINUS HENDRIKUS ANTONIUS;保洛 马丁司 马利亚 利伯葛汀;MARIA;乔翁 乔纳斯 苏菲亚 马莉亚 马汀斯;JOHANNES SOPHIA MARIA;简 乔德 寇勒尼斯 凡 德 创恩;CORNELIS;米歇尔 瑞潘 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01);G03F9/00(2006.01);G02B27/18(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
荷兰 |