| 发明名称 | 衬底的处理方法及用于该方法的药液 | ||
| 摘要 | 本发明提供处理衬底上形成的有机膜图案的方法，其包括：第一步骤(步骤S11)，去除有机膜图案表面上形成的变质层或沉积层；和第二步骤(步骤S12和S13)，将有机膜图案的至少一部分缩小，或去除所述有机膜图案的一部分。 | ||
| 申请公布号 | CN1892444A | 申请公布日期 | 2007.01.10 |
| 申请号 | CN200610093729.3 | 申请日期 | 2004.09.20 |
| 申请人 | NEC液晶技术株式会社 | 发明人 | 城户秀作 |
| 分类号 | G03F7/26(2006.01);H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | G03F7/26(2006.01) |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 王海川;樊卫民 |
| 主权项 | 1.衬底上形成的有机膜图案的处理方法，所述有机膜图案具有至少两种厚度，所述方法包括：主要步骤：通过使用药液缩小或去除所述有机膜图案的至少一部分。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县川崎市 | ||