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发明名称 Kissen zum chemisch-mechanischen Polieren, Herstellungsverfahren dafür und chemisch-mechanisches Polierverfahren für Halbleiterwafer
摘要
申请公布号 DE602005000252(D1) 申请公布日期 2006.12.28
申请号 DE200560000252T 申请日期 2005.04.27
申请人 JSR CORP. 发明人 HOSAKA, YUKIO;SHIHO, HIROSHI;MIYAUCHI, HIROYUKI;OKAMOTO, TAKAHIRO;HASEGAWA, KOU;KAWAHASHI, NOBUO
分类号 B24B37/04;B24D18/00 主分类号 B24B37/04
代理机构 代理人
主权项
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