发明名称 光阻清洗剂
摘要 本发明系为一种包含乙酸丙二醇单甲基醚酯(PGMEA)或乙酸丙二醇单甲基醚酯衍生化合物与环己酮(ANONE)或环己酮(ANONE)衍生化合物成分之光阻清洗剂;此光阻清洗剂具有下列特点:对人体具极低毒性,使用上具安全性,且无令人不愉快气味;不会对环境造成污染,且其废液及废水容易处理;对光阻材料层具有良好的溶解度,适宜的挥发性,及优越的清洗能力及良好于不同光阻之间相容性;能于室温储存,成本低廉,且不需更换用设备与生产条件对人体具极低毒性,且其废液及废水容易处理。
申请公布号 TW200643656 申请公布日期 2006.12.16
申请号 TW094144393 申请日期 2005.12.15
申请人 新应材股份有限公司 发明人 郭光埌;戴杏如
分类号 G03F7/42(2006.01);G03F7/16(2006.01) 主分类号 G03F7/42(2006.01)
代理机构 代理人
主权项
地址 桃园县龙潭乡高原村渴望路185号1楼