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发明名称
光阻清洗剂
摘要
本发明系为一种包含乙酸丙二醇单甲基醚酯(PGMEA)或乙酸丙二醇单甲基醚酯衍生化合物与环己酮(ANONE)或环己酮(ANONE)衍生化合物成分之光阻清洗剂;此光阻清洗剂具有下列特点:对人体具极低毒性,使用上具安全性,且无令人不愉快气味;不会对环境造成污染,且其废液及废水容易处理;对光阻材料层具有良好的溶解度,适宜的挥发性,及优越的清洗能力及良好于不同光阻之间相容性;能于室温储存,成本低廉,且不需更换用设备与生产条件对人体具极低毒性,且其废液及废水容易处理。
申请公布号
TW200643656
申请公布日期
2006.12.16
申请号
TW094144393
申请日期
2005.12.15
申请人
新应材股份有限公司
发明人
郭光埌;戴杏如
分类号
G03F7/42(2006.01);G03F7/16(2006.01)
主分类号
G03F7/42(2006.01)
代理机构
代理人
主权项
地址
桃园县龙潭乡高原村渴望路185号1楼
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