发明名称 半导体装置
摘要 本发明提供一种半导体装置,其在半导体基板的主面形成成为PIN光电二极管(PIN-PD)的i层的高电阻率的外延层(82)。在外延层(82)的表面形成沟槽(68、70),在沟槽(68)的表面形成成为PIN-PD的阴极区域(64)的n<SUP>+</SUP>区域,在沟槽(70)的表面形成成为阳极区域(66)的p<SUP>+</SUP>区域。若使阴极区域(64)和阳极区域(66)为反向偏置,则作为阴极区域(64)和阳极区域(66)之间的i层的受光半导体区域(72)被耗尽化。该耗尽层扩展到半导体基板表面。因此,对于吸收长短的蓝色光,可使其在半导体基板表面生成信号电荷而将该电荷收集到阴极区域(64)而作为受光信号取出。
申请公布号 CN1874008A 申请公布日期 2006.12.06
申请号 CN200610084804.X 申请日期 2006.05.19
申请人 三洋电机株式会社 发明人 长谷川昭博
分类号 H01L31/10(2006.01);H01L27/144(2006.01) 主分类号 H01L31/10(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 李香兰
主权项 1.一种半导体装置,其中具有:低杂质浓度的受光半导体区域,其设置于半导体基板的主面,并接收信号光;阳极区域和阴极区域,其形成于所述主面,相互之间配有所述受光半导体区域,所述阳极区域,是被施加第1电压,并杂质浓度比所述受光半导体区域的还高的第1导电型半导体区域;所述阴极区域,是被施加第2电压,并杂质浓度比所述受光半导体区的还高的第2导电型半导体区域;所述阳极区域和所述阴极区域,通过所述第1电压及所述第2电压而被设为反向偏置状态,在所述受光半导体区域中形成耗尽层。
地址 日本国大阪府守口市京阪本通2丁目5番5号