发明名称 |
半导体基板洗涤剂和洗涤方法 |
摘要 |
本发明涉及含有在分子中具有带有非共享电子对氮原子的化合物形成的,用于表面上施加了铜布线的半导体表面的洗涤剂,以及半导体表面的洗涤方法,其特征在于用该洗涤剂处理表面上施加了铜布线的半导体表面。本发明所涉及的洗涤剂,在表面施加了Cu布线的半导体中,不腐蚀Cu布线(Cu薄膜),层间绝缘膜SiO<SUB>2</SUB>,而且不损坏表面的平坦度,能够有效地除去在Cu-CMP工序附着的半导体表面的CuO和颗粒。 |
申请公布号 |
CN1872976A |
申请公布日期 |
2006.12.06 |
申请号 |
CN200610066697.8 |
申请日期 |
2001.03.19 |
申请人 |
和光纯药工业株式会社 |
发明人 |
柿澤政彦;木村真弓;水田浩德;林田一良 |
分类号 |
C11D3/34(2006.01);C11D1/66(2006.01);H01L21/304(2006.01);C11D3/33(2006.01) |
主分类号 |
C11D3/34(2006.01) |
代理机构 |
北京市中咨律师事务所 |
代理人 |
段承恩;田欣 |
主权项 |
1.一种用于表面施加了铜布线的半导体表面的洗涤剂,含有(1)选自下述物质的至少一种:下述通式[1′]所示的化合物、甘氨酸、丙氨酸、喹哪啶酸、选自二氨基苯以及二氨基萘的芳香族二胺类、选自尿素以及尿酸的尿素类、选自硫脲以及氨基硫脲的硫脲类、下述通式[3]所示的化合物、下述通式[4]所示的化合物、下述通式[5]所示的化合物、以及邻菲绕啉或其衍生物;和(2)选自还原剂和表面活性剂的至少一种而构成,<img file="A2006100666970002C1.GIF" wi="887" he="214" />式中,R<sub>1</sub>′和R<sub>2</sub>′表示碳原子数1~6的烷基,R<sub>3</sub>′表示氢原子或碳原子数1~6的烷基;<img file="A2006100666970002C2.GIF" wi="856" he="201" />式中R<sub>8</sub>-R<sub>12</sub>各自独立地表示氢原子或未取代或被羟基或膦酸基取代的碳原子数1~6的烷基,Y<sub>2</sub>和Y<sub>3</sub>各自独立地表示碳原子数1~10的亚烷基,n表示1或其以上的整数;R<sub>13</sub>X=NR<sub>15</sub> [4]式中X表示=CR<sub>14</sub>或氮原子,R<sub>13</sub>-R<sub>15</sub>各自独立地表示氢原子,或未取代或被羟基或羧基取代的碳原子数1~6的烷基、碳原子数2~6的链烯基、碳原子数6~14的芳基或碳原子数7~12的芳烷基,或来自含有氮原子作为构成原子的杂环的一价基团;R<sub>16</sub>-R<sub>17</sub> [5]式中R<sub>16</sub>和R<sub>17</sub>各自独立地表示来自含有氮原子作为构成原子的杂环的一价基团。 |
地址 |
日本大阪府 |