发明名称 绕射光栅、受光元件与使用该等元件之光读写头以及光记录再生装置
摘要 本发明系有关于一种绕射光栅、受光元件及使用该等元件之光读写头以及光记录再生装置,其系以提供一种可检测出高品质之信号之绕射光栅、受光元件及使用该等元件之光读写头以及光记录再生装置为目的。绕射光栅具有将从双波长半导体射出之第1及第2雷射光绕射分离而生成主光束及±1阶副光束,并仅形成于光射出面的绕射区域。形成于绕射区域之凹部之深度形成220nm。凹凸部之1间距之长度p形成22μm。凸部之宽度形成17.6μm。凸部之宽度对凹凸部之1间距长度之比率为0.8。
申请公布号 TW200641863 申请公布日期 2006.12.01
申请号 TW095103688 申请日期 2006.01.27
申请人 TDK股份有限公司 发明人 涩谷义一;佐藤吉德
分类号 G11B7/135(2006.01);G02B5/30(2006.01);G11B7/13(2006.01) 主分类号 G11B7/135(2006.01)
代理机构 代理人 恽轶群;陈文郎
主权项
地址 日本