| 发明名称 | 用于衬底处理室的热匹配支撑环 | ||
| 摘要 | 一种衬底支撑环包括带，该带具有至少部分围住衬底周边的内周边。该带具有辐射吸收表面。缘从该带的内周边向内沿径向延伸以支撑所述衬底。该带和缘可以由碳化硅形成，并且辐射吸收表面可以是被氧化的碳化硅层。在一种方案中，该带和缘具有组合热质量T<SUB>m</SUB>，辐射吸收表面具有吸收率A和表面面积S<SUB>a</SUB>，以使比值(A×S<SUB>a</SUB>)/T<SUB>m</SUB>为约4×10<SUP>－5</SUP>m<SUP>2</SUP>K/J到约9×10<SUP>－4</SUP>m<SUP>2</SUP>K/J。 | ||
| 申请公布号 | CN2842725Y | 申请公布日期 | 2006.11.29 |
| 申请号 | CN200520001009.0 | 申请日期 | 2005.01.17 |
| 申请人 | 应用材料公司 | 发明人 | 约瑟夫·M·拉尼什;阿龙·缪尔·亨特;巴拉苏布拉马尼恩·拉马钱德兰;雅勒帕特·拉维;孙达拉·拉马穆尔蒂;韦达普伦姆·S·阿楚塔拉曼;胡尔希德·索拉布吉 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/68(2006.01);F27D5/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 肖善强 |
| 主权项 | 1.一种用于衬底处理室的热匹配支撑环，其特征是所述环包括：(a)带，该带包括内周边、外周边以及顶面，所述内周边至少部分围住衬底的周边，所述顶面是一辐射吸收表面；(b)环状连接侧壁，其从所述带的内周边向下延伸；(c)缘，其从所述环状连接侧壁向内沿径向延伸，所述缘位于所述带的顶面下方并形成一凹入部分以支撑在所述带的内周边之内的衬底；(d)环状支撑侧壁，其从所述带的外周边向下延伸；其中所述带和缘包括碳化硅的烧结组合物，并且其中所述辐射吸收表面包括被氧化的碳化硅层。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||