| 主权项 |
1.一种彩色滤光片,包括:一基板,具有一显示区及一非显示区;一遮盖层,系以不连续分布配置于该基板上,并于该显示区内定义出复数个次画素区;复数个彩色滤光单元,系设置于该基板上并对应配置于该些次画素区内;一导电层,系配置于遮盖层上;以及一电极层,系配置于该遮盖层以及该些彩色滤光单元上并与该导电层电性连接。2.如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片,其中该电极层包括ITO、IZO、ZnO:Sn、ZnO:V、ZnO:Co、ZnO:Al、ZnO:Ga、ZnO:Ti或ZnO:In。3.如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片,其中该遮盖层之材质包括黑树脂或黑压克力。4.如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片,其中该导电层为一或一层以上结构。5.如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片,其中该导电层系为矩阵状或复数条状。6.如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片,更包含一平坦层位于该些彩色滤光单元及该电极层之间。7.如申请专利范围第6项所述之彩色滤光片,其中该导电层系位于该平坦层及该电极层之间。8.如申请专利范围第6项所述之彩色滤光片,其中该导电层系位于该平坦层及该遮盖层之间。9.如申请专利范围第8项所述之彩色滤光片,其中该平坦层具有至少一接触孔,使得该导电层与该电极层经由该至少一接触孔电性连接。10.如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片,其中该遮盖层与该导电层系位于该显示区以及该非显示区内。11.如申请专利范围第10项所述之彩色滤光片,其中该非显示区上之该导电层系与该电极层电性连接。12.如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片,其中该导电层系为金属。13.如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片,其中该导电层系包含银、钼、钛、铝、铜、铬、铂、钼/铝/钼、钛/铝/钛或铝/铌。14.如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片,其中该电极层之厚度约为400至1500。15.一种彩色滤光片,包括:一基板,具有一显示区及一非显示区;复数遮盖层,系配置于该基板上,其中该些遮盖层于该显示区内系定义出复数个次画素区;复数个彩色滤光单元,系设置于该基板上且对应配置于该些次画素区内;一导电层,系配置在邻接于该显示区边缘处之该非显示区的遮盖层上;以及一电极层,系配置于该遮盖层以及该些彩色滤光单元上并与该导电层电性连接。16.如申请专利范围第15项所述之彩色滤光片,其中该电极层包括ITO、IZO、ZnO:Sn、ZnO:V、ZnO:Co、ZnO:Al、ZnO:Ga、ZnO:Ti或ZnO:In。17.如申请专利范围第15项所述之彩色滤光片,其中该遮盖层之材质包括树脂或压克力。18.如申请专利范围第15项所述之彩色滤光片,其中该导电层为一或一层以上结构。19.如申请专利范围第15项所述之彩色滤光片,其中该导电层为封闭式环状或非连续条状环绕该显示区周围的结构。20.如申请专利范围第15项所述之彩色滤光片,更包含一平坦层位于该些彩色滤光单元及该导电层上,并位于该电极层下,且该平坦层具有至少一接触孔,使得该导电层与该电极层经由该至少一接触孔电性连接。21.一种彩色滤光片之制作方法,包括下列步骤:提供一基板;于该基板表面形成一遮盖层并定义出复数次画素区;于该基板上以及该复数次画素区内形成复数彩色滤光单元;在该遮盖层上方形成一导电层;以及在该些彩色滤光单元以及该遮盖层上形成一电极层,其中该导电层与该电极层电性连接。22.如申请专利范围第21项所述之彩色滤光片之制作方法,其中该遮盖层系采用转印法(Transfer processmethod)、反转印刷法形成(Reverse process method)、喷墨列印法(Inkjet Printing method)或杜邦雷射列印法形成。23.如申请专利范围第21项所述之彩色滤光片之制作方法,其中该些彩色滤光单元系采用转印法(Transfer process method)、反转印刷法(Reverse processmethod)、喷墨列印法(Inkjet Printing method)或杜邦雷射列印法形成。24.如申请专利范围第21项所述之彩色滤光片之制作方法,其中该导电层系以溅镀法、蒸镀法、无电镀法、喷墨列印法(Inkjet Printing method)或无光罩技术镀上。25.如申请专利范围第21项所述之彩色滤光片之制作方法,其中该导电层为一或一层以上结构。26.如申请专利范围第21项所述之彩色滤光片之制作方法,其中该导电层的形状为矩阵状或复数条状。27.如申请专利范围第21项所述之彩色滤光片之制作方法,其中先形成该些彩色滤光单元于次画素区内,再形成该导电层于该遮盖层上方。28如申请专利范围第27项所述之彩色滤光片之制作方法,其中在形成该导电层之前更包括:形成一平坦层于该遮盖层及该些彩色滤光单元上方。29.如申请专利范围第21项所述之彩色滤光片之制作方法,其中先形成该导电层于该遮盖层上方,再形成该些彩色滤光单元于该些次画素区内。30.如申请专利范围第29项所述之彩色滤光片之制作方法,其中在该电极层形成之前更包括:先形成一平坦层于该导电层及该些彩色滤光单元上方。31.如申请专利范围第30项所述之彩色滤光片之制作方法,其中更包括于该平坦层形成至少一接触孔并露出该导电层,使得该导电层与该电极层经由该至少一接触孔电性连接。32.如申请专利范围第31项所述之彩色滤光片之制作方法,其中该接触孔是以黄光蚀刻制程或以无光罩技术形成。33.一种彩色滤光片之制作方法,包括下列步骤:提供一基板,具有一显示区及一非显示区;于该基板表面形成一遮盖层;在该非显示区的该遮盖层上方形成一导电层;以及在该遮盖层上方形成一电极层并与该导电层电性连接。34.如申请专利范围第33项所述之彩色滤光片之制作方法,其中在形成该电极层前,更包括:先形成一平坦层于该遮盖层上方。35.如申请专利范围第33项所述之彩色滤光片之制作方法,其中在形成该电极层前,更包括:形成一平坦层于该导电层上方;以及形成至少一接触孔于该平坦层中并露出该导电层,使该电极层与该导电层经由该至少一接触孔电性连接。36.如申请专利范围第35项所述之彩色滤光片之制作方法,其中该接触孔是以黄光蚀刻制程或以无光罩技术形成。图式简单说明:第1图为习知彩色滤光片之平面示意图。第1a图为习知彩色滤光片沿A-A'线之剖面示意图。第2图为另一种习知包含平坦层之彩色滤光片之结构示意图。第3a~3d图为本发明之第一较佳实施例中一种彩色滤光片之制作流程图。第4a图为本发明之第二较佳实施例中一种彩色滤光片之制作形成R/G/B的彩色滤光单元剖面图。第4b图为本发明之第二较佳实施例中一种包含平坦层之彩色滤光片之制作形成平坦层的剖面图。第4c图为本发明之第二较佳实施例中一种包含平坦层之彩色滤光片之制作形成导电层的剖面图。第4d图为本发明之第二较佳实施例中一种包含平坦层之彩色滤光片之制作形成电极层的剖面图。第5a图为本发明之第三较佳实施例中一种彩色滤光片之制作形成平坦层及接触孔(via hole)的剖面图。第5b图为本发明之第三较佳实施例中一种彩色滤光片之制作形成电极层的剖面图。第6a图为本发明之第四较佳实施例中一种彩色滤光片非显示区之导电层为环状之平面图。第6b图为本发明之第四较佳实施例中一种彩色滤光片非显示区之导电层为非连续条状之平面图。第7a-7c图为本发明之第四较佳实施例中一种彩色滤光片之制作流程图。第7d图为本发明之第四较佳实施例中一种彩色滤光片之制作形成平坦层及接触孔(via hole)的剖面图。第7e图为本发明之第四较佳实施例中一种彩色滤光片之制作形成平坦层的剖面图。 |
